第1099节（1 / 3）

“了不起啊，小陆，你们了不起啊。”

沙领导满意道：“我记得是7年前还是8年前，也是在这里，你让我看的是65n干式光刻机，还向我保证绝对能搞出属于我们自己的国产的浸润式光刻机，我本来以为要花10年甚至更长的时间，没想到你给了我们一个大大的惊喜啊！这么快让你们搞出来了！”

“哪里，哪里，领导。”

陆飞露出谦虚而内敛的笑容。

“说说吧，到底是怎么搞出来的？”

沙领导眼里满是赞赏之色。

“其实这并不是逻辑和中微两家的功劳，我们只负责整体的统筹调度和集成研发。”

陆飞笑道：“duv浸润式光刻机能成功，完完全全归功于参与到整个项目的全体员工、科研人员们，是他们的血汗和信念，才有了今天的光刻机，当然也离不开领导们的支持，地方上的政策，还有相关公司、院校、国企单位的合作。”

顿了顿，“可以说，这台duv浸润式光刻机凝结了华夏半导体从业人员的智慧和野心，也代表着目前国内光刻机的最高水平，距离国际一线的euv光刻机，只有一代的代差了。”

“生产7n的良品率是多少？”

郑韩脸上挂着得意的笑容。

毕竟，如此国之重器出自张江技术园区，沪市毫无疑问当得上“华夏半导体之都”。

“不同的芯片不同的良率，但基本能稳定在70％，慢慢调试改进，可以达到80％。”

陆飞比比画画道：“完全可以比肩asl，只用4个光罩、4次曝光，就可以达到7n制程工艺。”

沙领导问道：“现在逻辑和华为的手机用的都是7n制程工艺的芯片对吗？”

陆飞点了下头，“没错，7n是目前市面上最先进的制程工艺，不过根据摩尔定律，再过个一两年，就可能突破到5n。”

“5n是不是就需要euv光刻机了？”

郑韩好奇道。

“有euv光刻机固然是好，只要一次曝光，一个光罩就能实现7n、5n，但没有euv光刻机也无妨，有这台duv浸润式光刻机也可以做到。”

陆飞露出个看似轻松的笑容。

“喔？”

顷刻间，一众领导的目光齐聚于他。

“梁博士想到的方案，如果把光刻机极限使用，经过6个光罩，9次曝光，也可以实现5n工艺。”陆飞直截了当地回答。

一个戴着玳瑁眼镜的领导担忧道：“光刻机这么极限使用，会不会影响到使用寿命？”

“还有良率。”

“是啊，经过这么多道曝光，任何一道工序失败，都可能满盘皆输，成本就上来了……”

领导们来回分析，议论纷纷。

陆飞只能一一回答，“损害寿命肯定会损害，良率低也肯定会低一些，成本自然也就会高一点，但这是没有办法的办法，目前euv光刻机国产化要实现彻底突破，还有不少技术难题摆在面前，需要时间去攻破。”

“比如呢？”

沙领导投去问询的目光。

“光刻机的技术难点主要集中在光源、反射镜、工作台，现在双工作台已经解决了，光源问题也突破了，就剩下物镜系统。”

陆飞直说道：“asl、尼康的光刻机用的是蔡司的技术，但蔡司愿意卖给asl、尼康，但绝对不会出口给我们。”

然后叹了口气，“没办法，我们只能从零开始，联合长春光机、徕卡、华为等联合研发，现在搞定了duv浸润式的物镜系统，至于euv的，恐怕需要很长一段时间。”

“那这期间，复芯、中芯的晶圆代工，有没有可能会被台积电、英特尔的差距拉大？”

郑韩皱了皱眉。

“肯定会，但好在情况并不糟糕。”

陆飞笑道：“虽然5n是目前我们的极限，理论上而言，台积电、英特尔、三星这些有euv光刻机的，制程工艺甚至可以冲击到1n，但得到的回报并不会太高。”

不少领导感到奇怪，“为什么这么说？制程工艺难道不是越先进越好嘛？”

“理论上是这样，但事实是现在全球智能机领域已经有‘性能过剩’的趋势，搭载5n芯片的手机体验，未必就不如3n，就会让3n及以下工艺陷入一种尴尬的地步，飙升的成本却只得到微弱的性能提升。”

陆飞嘿然一笑，“反倒是28n、14n和7n这三个节点的工艺才是市场主流，特别是我们国内绝大部份的芯片需求，所以有了国产的duv浸润式光刻机，基本可以保证我们不会也不怕被卡脖子，也能保证支撑到我们研发出euv光刻机的那一天。”

众人两两相望，相视一笑。

确实，28n是集成电路产能中划分中低端跟中高端的分界线。

除了对功耗要求比较高的cpu、gpu、ai芯片外，其余的工业级芯片用的都是28n以上